紫外可見分光光度計(jì)是精密分析儀器，其操作規(guī)范性直接影響測(cè)量精度、儀器壽命及實(shí)驗(yàn)安全。以下從開機(jī)前、開機(jī)預(yù)熱、測(cè)量過程、關(guān)機(jī)后、日常維護(hù)五個(gè)核心維度，梳理詳細(xì)注意事項(xiàng)：
一、開機(jī)前準(zhǔn)備：排除環(huán)境與硬件隱患
環(huán)境檢查
溫度：需控制在 15~30℃（最佳 20~25℃），避免陽(yáng)光直射、空調(diào)直吹或靠近熱源（如電爐），溫度劇烈波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致基線漂移。
濕度：相對(duì)濕度≤ 75%，濕度過高易導(dǎo)致光學(xué)部件發(fā)霉、電路短路，建議潮濕環(huán)境搭配除濕機(jī)使用。
清潔：儀器周圍無(wú)粉塵、腐蝕性氣體（如酸堿揮發(fā)物），樣品室需提前擦拭干凈（用無(wú)塵布蘸乙醇輕擦）。
電源與配件檢查
電源：確認(rèn)電壓為 220V±10%（部分進(jìn)口儀器需 110V，需提前核對(duì)），插頭接觸良好，接地可靠（避免漏電或電磁干擾）。
光源：檢查氘燈（紫外區(qū)，190~400nm）、鎢燈（可見區(qū)，400~1100nm）是否過期（一般氘燈壽命 1000~2000h，鎢燈 2000~3000h），外觀無(wú)發(fā)黑、破裂。
比色皿：
材質(zhì)區(qū)分：紫外區(qū)（≤400nm）必須用石英比色皿（玻璃會(huì)吸收紫外光），可見區(qū)（≥400nm）可選用玻璃或石英比色皿，嚴(yán)禁混用。
狀態(tài)檢查：比色皿無(wú)裂痕、透光面（兩面光滑面）無(wú)劃痕、污漬，磨砂面（手握面）無(wú)破損。
二、開機(jī)與預(yù)熱：保障儀器穩(wěn)定初始化
開機(jī)順序（嚴(yán)格遵循）
先開啟 儀器主機(jī)電源，等待儀器自檢（屏幕顯示 “Pass" 或無(wú)報(bào)錯(cuò)）；
自檢通過后，打開配套軟件（如 Shimadzu UVprobe、Thermo Insight），選擇對(duì)應(yīng)的光源（紫外 / 可見）；
嚴(yán)禁先開軟件再開主機(jī)，避免軟件無(wú)法識(shí)別儀器導(dǎo)致通訊故障。
預(yù)熱要求
光源預(yù)熱：氘燈需預(yù)熱 20~30 分鐘，鎢燈需預(yù)熱 10~15 分鐘，確保光源強(qiáng)度穩(wěn)定（預(yù)熱不足會(huì)導(dǎo)致吸光度數(shù)據(jù)波動(dòng)）。
整機(jī)穩(wěn)定：部分高精度儀器需整機(jī)預(yù)熱 30 分鐘以上（具體以說明書為準(zhǔn)），預(yù)熱期間不可打開樣品室蓋子，避免影響基線穩(wěn)定性。
三、測(cè)量過程：核心操作規(guī)范（影響數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性）
比色皿使用：避免 “隱形誤差"
拿取方式：僅握磨砂面，嚴(yán)禁觸碰透光面（指紋、油脂會(huì)吸收光，導(dǎo)致吸光度偏高），若不慎觸碰，需用無(wú)塵紙蘸乙醇輕輕擦拭，再用純水擦凈并晾干。
清洗與潤(rùn)洗：
測(cè)量前：比色皿需用純水清洗 3 次，再用待測(cè)樣品溶液潤(rùn)洗 2~3 次（避免樣品濃度被殘留水稀釋，導(dǎo)致數(shù)據(jù)偏低）。
測(cè)量后：若樣品為酸、堿、有機(jī)溶劑（如甲醇、乙醇），需立即用對(duì)應(yīng)溶劑沖洗（酸 / 堿用大量水沖，有機(jī)溶劑用乙醇沖），再用純水洗凈，倒置晾干（避免殘留腐蝕比色皿）。
裝液要求：液體體積需占比色皿 2/3~3/4（過少會(huì)導(dǎo)致光路未被覆蓋，過多易溢出污染樣品室），裝液后需輕輕倒置搖勻（避免氣泡），若有氣泡需用針頭挑破或靜置至氣泡消失（氣泡會(huì)散射光，導(dǎo)致吸光度異常偏高）。
空白校正：消除背景干擾
空白溶液選擇：需與樣品 “基體一致"（如樣品為水溶液 + 試劑，空白則為純水 + 同等濃度試劑），不可直接用純水做空白（會(huì)忽略試劑本身的吸光度）。
校正操作：將空白比色皿放入樣品室的 “參比位"（一般為第一個(gè)卡槽），樣品比色皿放入 “測(cè)量位"，點(diǎn)擊軟件 “空白校正" 或 “基線校正"，待校正完成（吸光度顯示 0.0000±0.0005）后再開始測(cè)量。
注意：每更換一次波長(zhǎng)，需重新進(jìn)行空白校正（不同波長(zhǎng)下，空白的吸光度可能不同）。
樣品測(cè)量：控制濃度與操作細(xì)節(jié)
濃度范圍：樣品吸光度需控制在 0.2~0.8（部分儀器 0.1~1.0），此范圍線性關(guān)系最佳；若吸光度＞1.0，需用溶劑稀釋（記錄稀釋倍數(shù)，最終結(jié)果 = 測(cè)量值 × 稀釋倍數(shù)）；若吸光度＜0.2，需濃縮樣品（避免誤差過大）。
光路對(duì)齊：比色皿放入樣品室時(shí)，需確保透光面與光路方向一致（部分比色皿有箭頭標(biāo)識(shí)），蓋緊樣品室蓋子（開蓋會(huì)導(dǎo)致雜光進(jìn)入，數(shù)據(jù)跳變）。
測(cè)量順序：建議從低濃度到高濃度測(cè)量（避免高濃度樣品殘留污染低濃度樣品，若污染需用空白溶液沖洗比色皿 3 次后再測(cè)）。
數(shù)據(jù)記錄：避免遺漏關(guān)鍵信息
記錄內(nèi)容：波長(zhǎng)、空白溶液組成、樣品稀釋倍數(shù)、吸光度值（保留 4 位有效數(shù)字）、測(cè)量時(shí)間、儀器型號(hào)；
數(shù)據(jù)驗(yàn)證：同一樣品平行測(cè)量 3 次，相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差（RSD）需＜2%（精密實(shí)驗(yàn)＜1%），若 RSD 過大，需檢查比色皿是否潔凈、樣品是否均勻。
四、關(guān)機(jī)后操作：保護(hù)儀器與環(huán)境
關(guān)機(jī)順序（反向開機(jī)）
先關(guān)閉軟件（保存數(shù)據(jù)后正常退出，避免強(qiáng)制關(guān)閉導(dǎo)致數(shù)據(jù)丟失）；
等待軟件關(guān)閉后，關(guān)閉儀器主機(jī)電源；
最后拔掉插頭（長(zhǎng)期不用時(shí)），若短期使用（如次日再用），可保留插頭，但需關(guān)閉主機(jī)電源。
樣品室與比色皿清理
樣品室：用無(wú)塵布蘸純水擦拭殘留液體（若樣品為腐蝕性物質(zhì)，需用對(duì)應(yīng)中和劑擦拭后再用純水擦凈），保持干燥；
比色皿：洗凈后倒置在比色皿架上晾干，嚴(yán)禁用濾紙擦拭透光面（會(huì)產(chǎn)生劃痕），長(zhǎng)期不用時(shí)需放入干燥器（加硅膠干燥劑）。
周邊環(huán)境整理
清理實(shí)驗(yàn)臺(tái)，避免樣品、試劑靠近儀器；
記錄儀器使用日志（如開機(jī)時(shí)間、預(yù)熱時(shí)長(zhǎng)、測(cè)量樣品數(shù)、是否出現(xiàn)故障），便于后續(xù)維護(hù)排查。
五、日常維護(hù)與校準(zhǔn)：延長(zhǎng)儀器壽命
定期維護(hù)（按說明書周期）
光源更換：氘燈、鎢燈達(dá)到壽命后需及時(shí)更換（燈能量不足會(huì)導(dǎo)致基線噪聲增大），更換時(shí)需斷電操作，避免觸碰燈的石英外殼（指紋會(huì)影響壽命）；
光學(xué)部件清潔：每 3~6 個(gè)月，用洗耳球吹去單色器、檢測(cè)器表面的粉塵（嚴(yán)禁拆開儀器外殼，需由專業(yè)人員操作）；
比色皿維護(hù)：定期檢查透光面，若有劃痕需更換（劃痕會(huì)導(dǎo)致吸光度偏高），避免用硬物（如試管刷）清洗。
定期校準(zhǔn)（確保精度）
波長(zhǎng)校準(zhǔn)：每 6~12 個(gè)月用標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)溶液（如重鉻酸鉀溶液、鈥玻璃濾光片）校準(zhǔn)，若波長(zhǎng)偏差＞2nm，需由專業(yè)人員調(diào)整；
吸光度校準(zhǔn)：用標(biāo)準(zhǔn)吸光度溶液（如高錳酸鉀溶液、硫酸銅溶液）校準(zhǔn)，確保測(cè)量值與標(biāo)準(zhǔn)值的誤差＜1%；
基線平直度檢查：在空白校正后，掃描全波長(zhǎng)（190~1100nm），基線漂移需＜0.001A/h（200nm 處）、＜0.0005A/h（500nm 處），若漂移過大，需檢查光源或光學(xué)部件。
特殊情況處理
儀器報(bào)錯(cuò)：若顯示 “光源錯(cuò)誤"“通訊故障"，先斷電重啟，若仍報(bào)錯(cuò)，聯(lián)系廠家售后（嚴(yán)禁私自拆修）；
樣品溢出：若樣品灑入樣品室，立即斷電，用無(wú)塵布吸干液體，再用對(duì)應(yīng)溶劑（如乙醇、純水）擦拭，晾干后再開機(jī)（避免電路短路）；
長(zhǎng)期閑置：每月開機(jī)預(yù)熱 1 次（30 分鐘），防止光學(xué)部件發(fā)霉、電池虧電（部分儀器有內(nèi)置電池）。
點(diǎn)擊交流